광학 산업에서 마그네트론 스퍼터링 증착
애플리케이션
애플리케이션 | 특정 목적 | 소재 유형 |
광학 |
반반사 필름과 같은 광학 막, |
SiO2, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2 |
저방사 글라스 |
금속 (은, 구리, 주석, 기타 등등.)의 다층 |
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투명한 전도성 유리 | 아연산화물 :Al, 기타 등등 |
작업 원칙
자전관 스퍼터링의 특징은 높은 막 형성 률, 저기판 온도, 좋은 영화 접착입니다
그리고 실현할 수 있는 큰 영역 코팅. 이 기술은 DC 마그네트론 스퍼터링과 RF 마그네트론으로 분할될 수 있습니다
스퍼터링.
특징
모델 | MSC-O-X-X |
코팅형 | 금속막, 금속 산화물과 아인과 같은 다양한 유전막 |
코팅 온도 범위 | 500C에 대한 정상 온도 |
진공 챔버 사이즈를 코팅하기 | (주문형인) 700mm*750mm*700mm |
배경 진공 | < 5="">-7mbar |
코팅 두께 | ≥ 10nm |
두께 조종 정확성 | ≤ ±3% |
최대 코팅 사이즈 | ≥ 100 밀리미터 (커스텀기즈러블) |
막 두께 균일성 | ≤ ±0.5% |
기판 캐리어 | 행성 회전 메카니즘으로 |
목적 물질 | 4×4 인치 (4 인치로와 아래 적합한) |
전원 공급기 | DC, 펄스, RF, 조건과 같은 전원 공급기와 선입견은 선택적입니다 |
공정 가스 | Ar, N2, O2 |
기록 : 이용 가능한 주문 제작된 생산. |
코팅 샘플
처리 과정
→는 진공 챔버 안으로 코팅하기 위한 기판을 위치시킵니다 ;
→는 높고 낮온도에 진공 챔버를 바커우마이즈와, 동시에 기판을 회전시킵니다 ;
→ 시작 코팅 : 기판은 순서에서 그리고 동시 반응 없이 예고와 접촉됩니다 ;
→는 각각 반응 뒤에 고청정도 질소 가스로 그것을 정화합니다 ;
→ 막두께 뒤에 기판을 회전시키는 정지는 표준에 달려있고 세정과 냉각의 작동이 있습니다
완성했고 그리고 나서 진공 쇄파 조건이 충족되는 후에 기판을 포장해 갑니다.
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