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6×6×0.25 Inches Quartz Photomask Substrate For Photolithography Process

포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판

  • 하이 라이트

    6×6×0.25인치 석영 포토마스크

    ,

    포토리소그래피 공정 포토마스크 기판

    ,

    6×6×0.25인치 석영 포토마스크

  • 재료
    석영
  • 배송 조건
    페덱스, DHL, EMS, TNT 등
  • 에서 사용
    포토리소그래피 공정
  • 크기
    6인치 × 6인치 × 0.25인치
  • 원래 장소
    중화인민공화국 청두
  • 브랜드 이름
    ZEIT
  • 인증
    Case by case
  • 모델 번호
    6025
  • 최소 주문 수량
    1PCS
  • 가격
    Case by case
  • 포장 세부 사항
    나무 케이스
  • 배달 시간
    사례별로
  • 지불 조건
    T/T
  • 공급 능력
    사례별로

포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판

6인치 × 6인치 × 0.25인치 칩용 석영 포토마스크 기판

 

 

애플리케이션

집적회로칩 제조, FPD(Flat Panel Display),

MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 등

 

작동 원리

마스크는 마이크로 나노 제조의 포토리소그래피에서 일반적으로 사용되는 그래픽 마스터 마스크입니다.그래픽 구조

불투명한 포토마스크에 의해 투명기판에 형성된 후 그래픽 정보를

노출 공정을 통해 제품 기판.

 

특징                                                                         

                                                          칩용 포토마스크 기판 사용

모델/재료 크기 처리 용량
6025 / 쿼츠 6인치 × 6인치 × 0.25인치 연삭, 연마, 크롬 도금, 접착

 

 

 

 

프로세스 흐름

→ 원료 감지;

→ 거친 연삭;

→ 거친 연마;

→ 마스크 청소;

→ 원료 성능 검사;

→ 크롬 도금;

→ 마스크 성능 테스트;

→ 포토레지스트 코팅;

→ 포장;

→ 운반.

 

우리의 장점

우리는 제조업체입니다.

성숙한 과정.

근무 시간 24시간 이내에 회신하십시오.

 

우리의 ISO 인증

포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판 0

 

 

우리 특허의 일부

포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판 1포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판 2

 

 

수상 내역 및 R&D 자격

포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판 3포토리소그래피 공정을 위한 6×6×0.25 인치 석영 포토마스크 기판 4