1200mm*500mm(customized)와 자가 발달 최고급 광학 코팅 장비
작업 원칙
아토믹레이어 증착 (알드)은 한 개의 원자 영화의 모양으로 층의 물질이 기조 층에 놓아질 수 있는 방법입니다.
상술 매개 변수
| 모델 | ALD1200-500 |
| 도포막 시스템 | AL2O3,TiO2,ZnO와 기타 등등. |
| 코팅 온도 범위 | 일반 temperature-500C |
| 진공 체임버 차원을 코팅하기 | 내경 1200 밀리미터, (주문형인) 높이 500 밀리미터 |
| 진공 챔버 구조 | 고객 욕구에 따른 쿠스토미즈드 |
| 배경 진공 | <5x10>-7mbar |
| 코팅 두께 | ≥0.15nm |
| 두께 조종 정확도 | ±0.인텀 |
적용 분야
| MEMS 디바이스 |
| 전기 발광성 플레이트 |
| 디스플레이 |
| 저장 물질 |
| 유도성 결합 |
| 페로브스카이트 박막 이차 전지 |
| 3D 패키징 |
| 발광 애플리케이션 |
| 센서 |
| 잉어 배터리 |
알드 기술 장점
①The 예고는 큰 영역 균일막의 형성을 보증하는 포화된 화학흡착입니다.
②Multi-component 나노쉬트와 혼합 옥사이드는 맡겨질 수 있습니다.
③Inherent 증착 균일도, 쉬운 크기 조정은 직접적으로 비율에 따라 늘어날 수 있습니다.
④Can은 넓게 토대의 다양한 모양에 적용됩니다.
우리의 제품은 전 세계적으로 판매됩니다. 당신은 우리 제품의 전체 과정을 안심할 수 있습니다.
